立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。

技術(shù)特征
根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū)，溫度均勻性好；
采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效的處理。

主要配置
爐門：絲杠升降/液壓升降/手動升降；手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊
爐殼：全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
爐膽：軟碳氈/軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/CFC
加熱器、馬弗：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨
工藝氣路系統(tǒng)：體積/質(zhì)量流量計；手動閥/自動閥；進口/國產(chǎn)
真空泵和真空計：進口/國產(chǎn)
人機界面：模擬屏/觸摸屏/工控機
PLC：歐姆龍/西門子
控溫儀表：日本島電/英國歐陸
熱電偶：C分度號/S分度號/K分度號/N分度號
記錄儀：無紙記錄儀/有紙記錄儀；進口/國產(chǎn)
電器元件：正泰/施耐德/西門子