QCZ系列氫氣凈化設(shè)備
一、原理：
在水電解過程中，由于石棉隔膜并不能*阻隔氫氣和氧氣的相互滲透，特別是在氫與氧兩側(cè)壓力相差大的情況下，而且電解液是不斷循環(huán)的，在分離器里，氫氣、氧氣和電解液是很難達(dá)到完全分離，所以用水電解法制得的氫氣里，含有雜質(zhì)氧，一般在0.2%以下。又由于制氫過程是氣液共存的，所以氫氣中還存有飽和含水量。
QCZ系列氫氣純化裝置以水電解氫氣為原料氫氣進(jìn)入純化裝置的氣水分離器，分離去游離子水后進(jìn)入脫氧器,在鈀鉑觸媒催化劑的作用下,使原料氫中的雜質(zhì)氧與氫反應(yīng)生成水汽。脫除雜質(zhì)氧后，經(jīng)氫氣冷卻器和氫氣冷凝器（使用冷卻水）及自動氣水分離器，分離去游離的凝水，然后進(jìn)入分子篩吸附干燥器（I）去濕，再通過壓力調(diào)節(jié)閥調(diào)定純化工作壓力和通過高效過濾器除塵，獲得純氫產(chǎn)品。
注：根據(jù)實際操作使用情況，加熱溫度、再生吹冷時間、閥門切換時間可作適當(dāng)調(diào)整。并也可按露點值決定閥門的切換時間。還可以根據(jù)客戶需要在裝置出口添加在線分析儀（微水儀、微氧儀）自動檢測的產(chǎn)品氫純度。一旦氫氣不合格會報警，并由放空閥放空，待問題解決合格后又自動恢復(fù)生產(chǎn)合格的純氫產(chǎn)品。
二、裝置要求
1. 工藝要求：
氫氣經(jīng)純化后雜質(zhì)含量應(yīng)控制為：
H2≥99.999%
水氣（H2O）≦-65℃
氧含量（O2） ≦1ppm
粉塵：氫氣干燥后，要求加絲網(wǎng)目≦1μ的過濾器。
凈化時氫氣消耗量：
（我公司為三塔流程氣體再生時無氫氣排放，氫氣消耗量為零 ）。
送出界區(qū)壓力：≥0.8-1.6MPaG

2.適用標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范
GB3863《工業(yè)用氣態(tài)氧》
GB3864《工業(yè)氫氣》
GB4962《氫氣使用安全技術(shù)規(guī)程》
GB50177《氫氧站設(shè)計規(guī)范》
GB50058《爆炸和火災(zāi)危險環(huán)境電力裝置設(shè)計規(guī)范》
GB7251《低壓成套開關(guān)柜》
GB150《鋼制壓力容器》
GB151《鋼制管殼式換熱器》
《鋼制壓力容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程》